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        RIR離子刻蝕機

        庫       存:

        80

        產       地:

        全國

        數       量:

        減少 增加

        價       格:

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        型號:

        所屬系列:半導體二手設備-二手芯片制造前段設備


         Samco International是始于1979年的等離子蝕刻與沉積系統制造商;日本最大的客制Plasma和Deposition設備供應商;日本京都、美國硅谷、英國劍橋、中國上海、臺灣和東南亞都有我們的設備和服務支持。Samco International為混合半導體、MEMS(微機電系統)、光電、失效分析以及其他市場制造各種各樣的系統。我們的產品在業內以系統占地面積最小、性價比最低著稱,且生產可靠性久經考驗。從整套生產需要工具、到簡單的實驗室系統,Samco International均有提供。
            反應性離子蝕刻,簡稱為RIE,最為各種反應器廣泛使用的方法,便是結合(1)物理性的離子轟擊與(2)化學反應的蝕刻。此鐘方式兼具非等向性與高蝕刻選擇比等雙重優點,蝕刻的進行主要靠化學反應來達成,以獲得高選擇比。加入離子轟擊的作用有二:一是將被蝕刻材質表面的原子鍵結破壞,以加速反應速率。二是將再沉積于被蝕刻表面的產物或聚合物(polymer)打掉,以使被蝕刻表面能再與蝕刻氣體接觸。
         RIE-10NR反應離子蝕刻設備特點:
               1. 高選擇性各向異性腐蝕,符合苛刻的制程要求;
               2. 全自動"一鍵"操作完全代替手動操作;
               3. 易于使用的電腦觸摸屏的參數控制和配方輸入和存儲;
               4. 晶圓尺寸達8"英寸直徑,圓滑、緊湊的設計使用最少的潔凈室空間;
               5. RIE-10NR設計用于蝕刻氮化物、氧化物和任意需要氟基化學的薄膜或基片。其安裝在節省空間的平臺上的模塊化設計,使其成為全世界許多用戶的首選系統;
               6. 高級選項:ICP(電感耦合等離子)、渦淪泵、帶背側氦冷卻系統和端點檢測系統的靜電吸盤等;
               7. 業已全面開發出各種工藝,用于對使用氟基化學的材料進行各向同性和各向異性蝕刻,其中包括:碳、環氧樹脂、石墨、銦、鉬、氮氧化物、光阻劑、聚酰亞胺、石英、硅、氧化物、氮化物、鉭、氮化鉭、氮化鈦、鎢鈦以及鎢。

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