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        專業MEMS工藝流片加工與代開發

        發表于:2016-09-30  作者:maoyuhehe  關注度:2108

        蘇州原位芯片科技有限公司為客戶提供高質量的微電子工藝流片服務和技術咨詢??商峁┯喼频墓に嚢ǎ汗饪?、反應離子刻蝕、金屬蒸鍍、LPCVD生長氮化硅、氧化硅和劃片等等,為MEMS芯片開發、MEMS技術研究、納米材料FET研究、光柵研究等領域提供代開發、代加工服務。

        1. 工藝設計:

        MEMS結構設計需要綜合考量多種因素,蘇州原位公司的專業團隊提供MEMS結構和工藝設計服務,可以有效優化工藝流程,減少后續開發的周期和成本。

        2.鍍膜服務:

        小片、2寸、4寸和6寸基底蒸發或濺射:Ti、Al、Ni、Au、AuGe、Cr、Pt、Ag、Cu、TiW、Pd、Zn、In、SiO2、MgF2、OS50、ITO、TiO2、Ta2O5、ZrO2、Al2O3、Si3N4和SiO2。(其他材料請直接電話聯系咨詢)

        3.光刻

        小片、2寸、4寸和6寸的接觸式曝光或步進曝光,最小線寬500nm。

        4.刻蝕

        提供干法(NLD、RIE、深硅刻蝕等)和濕法(各向同性和各向異性)刻蝕服務。

        5.封裝

        包括劃片和鍵合等封裝工藝服務。

        憑借5年以上經驗的專業MEMS設計和工藝工程師團隊,蘇州原位芯片可以賦予客戶和合作伙伴MEMS技術的翅膀,快速實現產業和學術技術開發和升級。

        網址:www.51mems.com

        郵箱:sales@sinoist.com.cn

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